a氧化鋁:&alpha氧化鋁原粉、微粉是以氧化鋁、氫氧化鋁為原料,采用隧道窯和回轉(zhuǎn)窯高溫煅燒工藝,研磨分級而成,具有純度高、
&alphaAl2O3轉(zhuǎn)化率高、真比重大、晶型穩(wěn)定、粒度分布窄和分散性好等特點,廣泛應(yīng)用于陶瓷、電瓷、耐火材料、
火花塞、催化劑載體、玻璃絕緣子用填料、高等絕緣部件、高純耐火纖維、環(huán)氧樹脂澆注填充料、研磨、拋光
用磨料等。
a氧化鋁拋光粉:拋光材料是用于被拋的物質(zhì),研磨拋光玻璃、金屬、皮革、半導體、塑料,寶石.玉器.水晶、銅、鋁、
地板磚、鏡面拋光、不銹鋼的研磨拋光等具有磨削力強,吸油率低。
用途:
人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動拋光(機器拋光、滾動拋光)、手動拋光(研磨拋光)等。
鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。
金屬表面拋光。
拋光條、拋光漿、油漆表面、亞克力、不銹鋼鏡面、非鐵金屬、玉石,大理石、花岡巖、水晶、光學玻璃的表面拋光。
汽車油漆打磨拋光,手機外殼油漆拋光等。
研磨拋光用氧化鋁YFPA系列
1、YFPA10G系列:用于不銹鋼、水晶、寶石等的精拋和鏡面拋光等。
2、YFPA20G系列:用于不銹鋼、銅、鋁、地板磚等的次精拋。
3、YFPA30G系列:磨削力強,吸油率低,用于不銹鋼中拋。
4、YFPA40G系列:磨削力強,吸油率低,用于粗拋。
產(chǎn)品系列
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型號
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典型理化指標
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Al2O3&ge
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Na2O&le
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SiO2&le
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Fe2O3&le
|
灼減&le
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真比重gcm3
|
原晶尺寸&mum
|
平均粒度
&mum
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研磨拋光用氧化鋁YFPA系列
|
YFPA10G
|
99.5
|
0.2
|
0.08
|
0.05
|
0.17
|
3.92
|
1
|
1.2±0.2
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||||||||||
YFPA20G
|
99.5
|
0.2
|
0.12
|
0.05
|
0.1
|
3.95
|
45
|
6.5±0.2
|
|||||||||||
YFPA30G
|
99.5
|
0.3
|
0.12
|
0.05
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0.1
|
3.96
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45
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5055
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|||||||||||
YFPA40G
|
99.5
|
0.3
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0.12
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0.05
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0.05
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3.97
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產(chǎn)品系列
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型號
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典型理化指標
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Al2O3&ge
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Na2O&le
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SiO2&le
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Fe2O3&le
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灼減&le
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真比重gcm3
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原晶尺寸&mum
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平均粒度
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研磨拋光用氧化鋁YFPA系列
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YFPA10G
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YFPA20G
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0.3
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